奥特维获得实用新型专利授权：“一种线痕标片”

专利摘要：本申请提供了一种线痕标片，包括：基片，基片的至少一个表面为磨砂表面，磨砂表面的最高点和最低点之间的高度差不超过2um；按预定的制作深度制作在磨砂表面上的至少一组线痕，每组线痕包括至少一条线痕，其中，每条线痕均具有平整的底部表面，底部表面的最高点和最低点之间的高度差不超过2um。本申请提供的线痕标片，其上的线痕并非硅片切割过程中自然产生的线痕，而是专门制作在基片的磨砂表面上的标准线痕。采用本申请制作的线痕标片对待投入使用的分选机进行校准，可实现校准标准的统一，简化校准过程的工作量。

今年以来奥特维新获得专利授权151个，较去年同期减少了3.82%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了1.3亿元，同比增32.59%。

数据来源：企查查

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