中微公司获得发明专利授权：“耐腐蚀涂层形成方法和装置、等离子体零部件和反应装置”

专利摘要：本发明涉及半导体加工技术领域，具体公开了一种耐腐蚀涂层形成方法，通过在制备涂层装置中的真空反应腔内设置多个增强源，调控分子流的运动方向，解决了现有技术中衬底侧壁涂层结构疏松，容易脱落的缺陷；进一步地，本发明还提供了一种等离子刻蚀零部件和反应装置，通过所述涂层形成方法在反应装置的反应腔内壁表面和等离子刻蚀零部件表面进行耐腐蚀涂层涂覆，得到在不同特征表面都具有结构致密的耐腐蚀涂层涂覆的等离子刻蚀零部件；所述零部件应用在等离子体反应装置中，由于其表面涂层结构致密不易脱落，从而提高了工件服役寿命，提升了刻蚀腔体环境的稳定性，并进一步提高了半导体刻蚀良率。

今年以来中微公司新获得专利授权148个，较去年同期增加了335.29%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了2.92亿元，同比减3.77%。

数据来源：企查查

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